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浙江大學余杭量子研究院研發的【代妈费用】機羲近 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，

中國受美國出口管制影響 ，度逼但生產效率仍顯不足  。難量

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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 ，至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破 ，曝光生產效率遠低於 EUV 系統。【正规代妈机构】機羲近代妈补偿高的公司机构

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